Quantum X litho提供高精度、高度对准的多样化灰度光刻解决方案，专用于高通量2.5D微纳结构加工，全面覆盖快速原型开发、功能性图案化、母模制备及晶圆级规模化生产等应用领域。
Quantum X litho是一款多功能的无掩膜光刻系统，兼具卓越的设计自由度和高效的工作流程——从快速任务设置到高性能打印和后期处理，全程流畅高效。
该系统支持高通量2.5D微纳加工，应用覆盖快速原型制作、先进图案化、母模板制造以及晶圆级批量生产。
依托2GL®双光子灰度光刻技术，Quantum X litho能够高精度制造自由曲面微光学元件、微透镜阵列、菲涅耳透镜以及兼具衍射和折射功能的混合光学器件。
Quantum X litho同样适用于复杂微流体结构和仿生拓扑表面的图案化，包括有机纳米和微米级结构表面。
专有的2GL®技术将高通量与卓越的形状精度相结合，支持高度达1,000微米的先进2.5D设计，突破传统高度限制。
2GL®通过快速的设计迭代加速创新，实现从概念到打印成品的亚天级交付周期。使用Quantum X litho打印的结构可无缝集成至工业复制流程，如纳米压印光刻、热压印和微注塑成型。结合nanoPrintX共聚焦检测模块，可实现晶圆级生产中的高精度对准。可选的2GL®3D打印模式，进一步扩展了系统向先进3D打印的能力。
【公司定位】纳糯三维Nanoscribe作为双光子灰度光刻微纳加工制造的先驱和创新者，从科研实验室到工业生产现场，Nanoscribe提供全方位高精度增材制造解决方案，显著简化制造流程、提升效率与精度。
【公司资质】Nanoscribe的2GL®技术受中国国家专利保护（专利号：CN110573291B）A2PL技术受中国国家专利保护（CN109997081B）
【主营业务】微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造
【应用领域】微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术
【产品优势】Nanoscribe公司拥有世界领先的双光子无掩模光刻3D打印技术，全新QuantumX系列具有专利双光子灰度光刻(2GL®)，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，A2PL®技术支持自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记，并以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件，确保打印结构与光学轴严格对齐。
【产品评价】QuantumXalign系统代表了新一代对准3D打印技术的发展方向，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，并具备自动对准能力，从而支持可靠、低损耗的光子耦合，以及在传感与成像等应用领域的多样化需求.
【品牌客户】哈佛大学，加州理工学院，牛津大学，斯图加特大学，麻省理工学院等
【技术领域】3D微纳加工、双光子加工
【客户反馈】纳糯三维Nanoscribe的技术在各项关键性突破研究中被提到，出现在2,100多份经同行评审的期刊出版物中
