解读半导体行业用输送泵 —— 核心定义解析
半导体行业用输送泵，作为半导体制造流程中不可或缺的关键设备，承担着精确、高效输送各类工艺流体的重任。这些流体涵盖超纯水、腐蚀性蚀刻液、光刻胶、化学气相沉积（CVD）气体等，它们在半导体制造的清洗、蚀刻、沉积、光刻等核心环节发挥着关键作用。半导体输送泵需具备极高的精度、稳定性以及耐腐蚀性，以确保流体输送量的精准控制，防止杂质污染半导体晶圆，保障半导体制造工艺的高度可靠性与一致性，是维系半导体生产高效、稳定运行的基础保障设备。
全球半导体行业用输送泵市场：规模与增长态势
据 Global Info Research（环洋市场咨询）发布的《2025 年全球市场半导体行业用输送泵总体规模、主要生产商、主要地区、产品和应用细分研究报告》调研数据显示，按收入计算，2024 年全球半导体行业用输送泵市场收入约达 171 百万美元。从市场发展趋势来看，该市场呈现出稳健且强劲的增长态势。随着半导体产业持续向先进制程迈进，对制造工艺的精度与稳定性要求不断提升，预计到 2031 年，全球市场收入将攀升至 318 百万美元，在 2025 至 2031 年期间，市场年复合增长率（CAGR）保持在 9.4% 的水平。该报告统计维度跨越 11 年行业数据，历史数据覆盖 2020 至 2024 年，预测数据延伸至 2025 至 2031 年，全面涵盖市场总体规模、地区分布、厂商产品特性及销量、收入等关键信息，为洞察市场动态与发展趋势提供了详实依据。
清晰分类 —— 半导体行业用输送泵调查对象分类
根据半导体行业用输送泵的产品类型，主要划分为以下几类：
- 隔膜泵：隔膜泵通过隔膜的往复运动实现流体的吸入与排出。在半导体领域，其隔膜通常采用耐腐蚀、无污染的材料，如聚四氟乙烯（PTFE）等。这种泵能有效避免流体与金属部件接触，防止金属离子污染工艺流体，常用于输送高纯度的化学药液、超纯水等，确保半导体制造过程的洁净度。
- 蠕动泵：蠕动泵依靠滚轮挤压弹性软管来输送流体，其独特的工作方式使得流体只与软管内壁接触，避免了泵体内部其他部件对流体的污染。在半导体制造中，蠕动泵常用于输送少量、高精度要求的光刻胶、特殊添加剂等，能够精准控制流体的输送量，满足光刻等精密工艺的需求。
- 磁力泵：磁力泵利用磁力驱动原理，通过隔离套将电机与泵体隔开，实现无接触式驱动。这一设计避免了传统泵轴密封可能带来的泄漏风险，防止外部杂质进入工艺流体，同时也避免了泵内流体泄漏对生产环境的污染。在半导体行业，磁力泵适用于输送具有腐蚀性、高纯度要求的蚀刻液、CVD 气体等。
- 风囊泵：风囊泵，也叫气动隔膜泵，采用压缩空气驱动隔膜，进而实现液体的吸入和排出。它具有低脉动、低噪音、高效率的特点，在半导体制造中，常用于真空抽取和气体输送，能够维持设备内部的低压或真空环境，防止氧气和其他杂质对半导体材料造成污染或损坏，在蚀刻、薄膜沉积等需要精确控制压力环境的工艺中发挥重要作用。
- 其他类型：除上述常见类型外，还包括一些根据特殊工艺需求定制的输送泵，如针对高粘度流体设计的特殊结构泵，或具备特殊流量调节功能的泵等，以满足半导体制造中日益多样化、复杂化的工艺需求。
多元适配 —— 半导体行业用输送泵下游应用领域
半导体行业用输送泵的下游应用紧密围绕半导体制造的核心工艺环节，主要集中在以下关键领域：
- 清洗：在半导体制造过程中，晶圆需要经过多次清洗以去除表面的杂质和污染物。输送泵负责将超纯水、清洗剂等高效、稳定地输送到清洗设备中，确保清洗过程的均匀性和彻底性，为后续的光刻、蚀刻等工艺提供清洁的晶圆表面。
- 蚀刻：蚀刻工艺通过化学或物理方法去除晶圆表面不需要的材料，以形成特定的电路图案。输送泵将腐蚀性的蚀刻液精准地输送到蚀刻设备中，并根据工艺要求精确控制流量和压力，保证蚀刻过程的精度和一致性，是实现高精度芯片制造的关键环节之一。
- 沉积：化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等沉积工艺用于在晶圆表面生长薄膜材料。输送泵负责将沉积所需的气体或液体前驱体输送到沉积设备的反应腔中，精确控制输送量和输送速率，对薄膜的质量、厚度均匀性等关键参数起着决定性作用。
- 光刻：光刻是半导体制造中最关键的工艺之一，用于将设计好的电路图案转移到晶圆表面的光刻胶上。输送泵将光刻胶精准地涂覆到晶圆表面，要求具有极高的精度和稳定性，以确保光刻图案的清晰度和准确性，直接影响芯片的性能和集成度。
- 其他应用：除了上述主要工艺外，半导体行业用输送泵还应用于离子注入、研磨、抛光等其他环节，以及半导体设备的冷却、循环系统等，为整个半导体制造流程提供全方位的流体输送支持。
驱动增长 —— 半导体行业用输送泵市场驱动因素
全球半导体行业用输送泵市场的稳健增长，得益于多方面因素的协同推动。首先，半导体产业持续向更小尺寸、更高集成度的先进制程发展，对制造工艺的精度和稳定性提出了前所未有的要求，这直接促使对高精度、高可靠性输送泵的需求大幅增长。例如，在 7nm 及以下制程工艺中，对光刻胶、蚀刻液等流体的输送精度要求达到皮升（pL）级别，推动了输送泵技术的不断创新与升级。其次，随着 5G 通信、人工智能、物联网等新兴领域的快速发展，对半导体芯片的需求呈现爆发式增长，带动了半导体产能的持续扩张。半导体制造企业纷纷加大设备投资，新建或扩建晶圆厂，从而拉动了对半导体行业用输送泵的市场需求。此外，环保法规的日益严格以及半导体制造企业对生产过程绿色化、可持续发展的追求，促使企业更加注重输送泵的节能、低泄漏等性能，推动了新型环保型输送泵的研发与应用。同时，材料科学和制造工艺的不断进步，为输送泵的性能提升和成本降低提供了技术支撑，进一步增强了市场竞争力，这些因素共同推动了市场的持续发展。
全球半导体行业用输送泵领域的核心参与者 —— 主要企业
全球半导体行业用输送泵的主要企业包括 KNF Group、PSG (Dover)、科恩科、Sandpiper、Iwaki Air、Levitronix、保定雷弗流体科技。这些企业凭借各自的技术优势、产品特点和市场渠道，在全球市场中占据重要地位。例如，KNF Group 与佳能纳米技术公司紧密合作，开发出了满足半导体行业极高要求的定制泵，采用特殊的抗电离材料，为处理超纯流体提供了极为清洁的泵解决方案，且维护需求低、运行经济高效；保定雷弗流体科技在蠕动泵领域具备深厚技术积累，其产品在半导体光刻胶输送等应用场景中，以高精度流量控制和稳定可靠的性能著称。各企业不断加大研发投入，持续推出适应市场需求的新产品和新技术，推动着行业的技术进步和市场竞争格局的演变。
展望未来 —— 半导体行业用输送泵市场的发展前景
综合来看，全球半导体行业用输送泵市场正处于快速发展的上升期。随着半导体产业向 3D 芯片、量子芯片等前沿领域探索，对制造工艺的精度、复杂度要求将进一步提升，这将为半导体行业用输送泵带来更为广阔的市场空间和更高的技术挑战。一方面，输送泵将朝着更高精度、更低污染、更智能化控制的方向发展，以满足半导体制造工艺不断升级的需求。例如，通过引入先进的传感器技术和智能控制系统，实现对流体输送过程的实时监测与精准调控，进一步提升半导体制造的良品率和生产效率。另一方面，随着新兴市场国家半导体产业的崛起，如中国、韩国等在全球半导体市场份额的不断扩大，以及全球半导体产业链的重构与本地化发展趋势，将带动半导体行业用输送泵市场需求在地域上更加多元化。可以预见，在 2025 至 2031 年的预测期内，全球半导体行业用输送泵市场将继续保持 9.4% 的复合增长率，不仅为半导体制造产业的持续发展提供坚实的设备支撑，也将为市场参与者带来丰富的发展机遇和广阔的利润空间。
