2025年全球半导体EUV掩膜行业总体规模、主要企业国内外市场占有率及排名
【出版机构】：qyresearch 研究中心
内容摘要
根据QYResearch调研统计，2031年全球半导体EUV掩膜市场销售额预计将达到11.6亿元，年复合增长率（CAGR）为8.6%（2025-2031）。中国市场在过去几年变化较快，2024年市场规模为 亿元，约占全球的 %，预计2031年将达到 亿元，届时全球占比将达到 %。
半导体 EUV 薄膜是一种薄而透明的薄膜，用于制造半导体芯片。它们由能够承受半导体制造过程中使用的高温和刺激性化学物质的材料制成。EUV 代表极紫外光，是一种用于光刻工艺的辐射，用于图案化和蚀刻半导体材料。薄膜在此过程中起着至关重要的作用，因为它们有助于将图案从光掩模转移到半导体基板，从而实现复杂电子电路的生产。
最初，保护膜为单层结构，核心层由多晶硅制成。自2021年以来，EUV保护膜已采用复合材料。其关键部件现在由交替的二硅化钼（MoSi?）和硅（Si）层组成，以形成多层结构。EUV透过率（EUVT）是EUV保护膜的关键性能指标。从单层结构到多层结构的转变使EUVT从约82％提高到约90％。下一代薄膜技术将超越结构变化（从单层到多层），引入材料进步，从而导致CNT Pellicle的出现。
在人工智能（AI）和计算技术进步的推动下，半导体行业对先进芯片的需求持续增长，其中使用EUV技术制造的7nm以下芯片增长最快。在7nm及以下的先进工艺中，掩模版上的图案尺寸可能只有几十纳米，这对Pellicle的均匀性和缺陷控制提出了极其严格的要求。下一代高功率EUV光刻机的运行功率超过500W，需要EUV薄膜来保护光掩模在芯片生产过程中免受颗粒污染。
近年来，芯片制造商在其先进芯片制造中采用极紫外（EUV）工艺的现象正在迅速增加。为了满足这种日益增长的需求，许多公司正在开发用于EUV工艺的保护膜。
ASML 于 2019 年推出了首款 EUV 薄膜，并将该技术授权给三井化学，后者于 2021 年开始批量销售。此后，ASML 对其薄膜进行了改进。据悉，三井化学的下一代 CNT 薄膜生产设施将于 2025 年底完工。
2021 年，韩国公司 S&S Tech 开发了一款透光率超过 90% 的薄膜。FST 的 EUV 薄膜仍处于开发阶段。
自 2015 年以来，Canatu 一直与 Imec 合作开发 CNT 薄膜，以满足寿命和透光率、热耐久性、渗透性和强度等性能目标。
本文侧重研究全球半导体EUV掩膜总体规模及主要厂商占有率和排名，主要统计指标包括半导体EUV掩膜产能、销量、销售收入、价格、市场份额及排名等，企业数据主要侧重近三年行业内主要厂商的市场销售情况。地区层面，主要分析过去五年和未来五年行业内主要生产地区和主要消费地区的规模及趋势。
本文主要企业名单如下，也可根据客户要求增加目标企业：
ASML
Canatu
Mitsui Chemicals
S & S Tech
FST
按照不同产品类型，包括如下几个类别：
＞90%透过率
≤90%透过率
按照不同应用，主要包括如下几个方面：
IDM
Foundry
重点关注如下几个地区
欧洲
中国
日本
韩国
本文正文共10章，各章节主要内容如下：
第1章：报告统计范围、所属行业、产品细分及主要的下游市场，行业现状及进入壁垒等
第2章：国内外主要企业市场占有率及排名
第3章：全球总体规模（产能、产量、销量、需求量、销售收入等数据，2020-2031年） , 中国总体规模（产能、产量、销量、需求量、销售收入、进出口等数据，2020-2031年）
第4章：全球半导体EUV掩膜主要地区分析，包括销量、销售收入等
第5章：全球半导体EUV掩膜主要厂商基本情况介绍，包括公司简介、半导体EUV掩膜产品型号、销量、收入、价格及最新动态等
第6章：国内外不同产品类型半导体EUV掩膜销量、收入、价格及份额等
第7章：国内外不同应用半导体EUV掩膜销量、收入、价格及份额等
第8章：行业发展趋势、驱动因素、行业政策等
第9章：产业链、上下游分析、生产模式、销售，模式及销售渠道分析，全球各地区各领域下游客户分析等
第10章：报告结论
