【出版机构】：qyresearch 研究中心
内容摘要
据QYR最新调研，2024年中国光刻胶清洗液市场销售收入达到了 万元，预计2031年可以达到 万元，2025-2031期间年复合增长率(CAGR)为 %。本研究项目旨在梳理光刻胶清洗液领域产品系列，洞悉行业特点、市场存量空间及增量空间，并结合市场发展前景判断光刻胶清洗液领域内各类竞争者所处地位。
作为半导体晶片制造过程的一部分，许多层去除技术用于从衬底表面去除任何不需要的层，同时尽量不引入任何污染。光刻胶是一种光敏有机材料，可以在光刻期间应用，在表面形成图案化涂层，以保护电子制造步骤中下面的无机层。 因此，光刻胶层需要在制造过程结束时通过光刻胶清洗液（Photoresist Cleaners）去除。全球光刻胶清洗液核心厂商包括东进世美肯、杜邦、Merck KGaA（Versum Materials）、ENF Tech等，前五大厂商占有全球大约73%的份额。韩国是全球最大的市场，占有接近43%的市场份额。就产品而言，正性光刻胶剥离剂是最大的细分，市场份额超过66%。在应用方面，主要应用在LCD/OLED，份额超过53%。
本报告研究中国市场光刻胶清洗液的生产、消费及进出口情况，重点关注在中国市场扮演重要角色的全球及本土光刻胶清洗液生产商，呈现这些厂商在中国市场的光刻胶清洗液销量、收入、价格、毛利率、市场份额等关键指标。此外，针对光刻胶清洗液产品本身的细分增长情况，如不同光刻胶清洗液产品类型、价格、销量、收入，不同应用光刻胶清洗液的市场销量等，本文也做了深入分析。历史数据为2020至2024年，预测数据为2025至2031年。
本文主要包括光刻胶清洗液生产商如下：
东进世美肯
杜邦
Merck KGaA（Versum Materials）
ENF Tech
东京应化
长濑产业
LG化学
Entegris
三福化工
LTC
Fujifilm
Mitsubishi Gas Chemical
江化微
Technic Inc
安集微电子
Solexir
按照不同产品类型，包括如下几个类别：
正性光刻胶剥离剂
负性光刻胶剥离剂
按照不同应用，主要包括如下几个方面：
晶圆加工
LCD/OLED
本文正文共9章，各章节主要内容如下：
第1章：报告统计范围、产品细分及中国总体规模（销量、销售收入等数据，2020-2031年）
第2章：中国市场光刻胶清洗液主要厂商（品牌）竞争分析，主要包括光刻胶清洗液销量、收入、市场份额、价格、产地及行业集中度分析
第3章：中国市场光刻胶清洗液主要厂商（品牌）基本情况介绍，包括公司简介、光刻胶清洗液产品型号、销量、价格、收入及最新动态等
第4章：中国不同产品类型光刻胶清洗液销量、收入、价格及份额等
第5章：中国不同应用光刻胶清洗液销量、收入、价格及份额等
第6章：行业发展环境分析
第7章：供应链分析
第8章：中国本土光刻胶清洗液生产情况分析，及中国市场光刻胶清洗液进出口情况
第9章：报告结论
本报告的关键问题
市场空间：中国光刻胶清洗液行业市场规模情况如何？未来增长情况如何？
产业链情况：中国光刻胶清洗液厂商所在产业链构成是怎样？未来格局会如何演化？
厂商分析：全球光刻胶清洗液领先企业是谁？企业情况怎样？
