半导体前端制造过程中，清洗和蚀刻气体起着至关重要的作用。这些气体用于形成精确的图案和结构，直接影响到器件的性能和良率。
据路亿市场策略调研
按产品类型：半导体前端用清洗和蚀刻气体细分为：含氟气体、含氯气体、其他
按应用，本文重点关注以下领域：半导体清洗、半导体蚀刻
本文重点关注全球范围内半导体前端用清洗和蚀刻气体主要企业，包括： SK Materials
Kanto Denka Kogyo
Resonac
Linde Group
Peric
Hyosung
Taiyo Nippon Sanso
Merck KGaA
Mitsui Chemical
Central Glass
Haohua Chemical Science & Technology
Shandong FeiYuan
Messer Group
Air Liquide
Huate Gas
