TDK的MediPlas™ 系统可将无毒且丰富可用的气体生成具有高灭菌效果的气态介质，用于保持医疗器械清洁。它由两个模块组成，其中流式反应器用于生成具有灭菌效果的气态介质，而驱动器则为反应器供电。
MediPlas反应器内部会产生低温等离子体。当输入气体与等离子体接触时，气体会被电离，并且原子之间的键也会被打破。而重新组合 形成 的新分子在反应器内部会产生紫罗兰色的发光，生成具有变异化学性质的高活性气体并从出口流出。
工作原理
根据所选的工艺参数和输入气体的类型，反应器内可以形成以下活性剂：强氧化剂，如臭氧和过氧化氢，以及用于蛋白变性的氮氧化物。
| 输入气体 | 湿空气 | |
|---|---|---|
| 氧气 (O₂) | O₃ | 超高浓度的臭氧，高达50,000 ppm |
| 干燥空气 | O₃ NOₓ | 超高浓度的臭氧， 高达4,000 ppm + 氮氧化物 |
| 湿空气 | O₃ H₂O₂ NOₓ | 超高浓度的臭氧， 高达4,000 ppm + 过氧化氢 + 氮氧化物(酸性) |
效果易于调整
灭菌剂的确切成分可根据客户特定要求进行调整。例如，反应器每分钟最多可释放 5 升反应气体混合物。不过，臭氧的产生率取决于MediPlas驱动器的电气参数和输入气体的成分。输入气体越干燥且氧气浓度越高，反应器产生的臭氧量就越大。因此，使用干燥空气时，稳态下每小时最高可生成1克臭氧；使用纯氧则最高可达30克臭氧。
通过热电冷却模块改变反应器的温度，并通过调节MediPlas驱动器的功率，能进一步调整输出气体。随着温度的升高，臭氧浓度会降低，氮氧化物浓度则会增加。而输入功率越高，臭氧和氮氧化物的浓度就越高。
原位清洗/灭菌
原位清洗 (CIP) 是指一种无需拆卸系统的情况下进行循环或连续清洁的过程。该方法最初是为食品和饮料行业以及制药行业而开发，不过同样应用于清洁医疗器械。
原位灭菌 (SIP) 主要用于制药和生物制品工厂，其目的不再局限于清洁设备，还包括对设备进行灭菌。通常，这些设备会用过热蒸汽或特殊化学品进行灭菌。
在过程中使用MediPlas系统能优化CIP/SIP循环。
典型步骤
通过MediPlas系统优化的循环
优势概览
| 高性能 | 经济高效 | 可持续且性能可靠 |
|---|---|---|
| - 浓度高达50,000 ppm的臭氧 (O₃) + 氧气 (O2) |
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浓度高达4,000 ppm的臭氧 (O₃) + 空气
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可调整气体输出的化学成分以满足特定的灭菌要求 周期时间短 | - 周期成本更低
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现成元件，易于集成并能可控制研发成本
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可控动力学能适应定制灭菌介质，助力优化过程时间 | - 无需耗材
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功耗低（最大32 W），轻便 (630 g)
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坚固耐用且紧凑 - 按照ISO 13485要求开发
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德国设计，欧盟工艺 |
应用
MediPlas系统可作为清洁、灭菌或消毒系统集成到各种应用 找正品元器件，上唯样商城。
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