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光刻机是制造芯片的核心设备，而NIL光刻机正在成为新的行业焦点。
传统EUV光刻机在制造晶体管时会遇到物理极限，而NIL光刻机则利用相对便宜的光源，可以实现一至两纳米制程的量产。NIL光刻机的最大的好处是光源相对便宜，不需要用能源转换效率低的EUV的激光源，而是只用一些DUV或者是更成熟的光源就可以结合纳米涂层的方法实现量产。
同时，早在2015年，中国的长春光机所就成功研发出了高精度弧形反射镜系统，为EUV光刻机技术的发展提供了重要的支持。在国内，三条主要的EUV光刻机研发路线采取饱和式研发，分别是由华为、上海光机所和宇量昇等国内公司合作。
清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源可以直接将光刻机光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。
无论哪种技术路线，都需要投入大量的研发力量和资金支持。
