持续创作，加速成长！这是我参与「掘金日新计划 · 6 月更文挑战」的第6天点击查看活动详情
美术资源方面
模型使用lod
LOD也称为层次细节模型，是一种实时三维计算机图形技术 就是远处的就不用那么精细 近处的精细一些
非连续LOD模型
类似于mipmap 生成副本金字塔 每个副本对应一个特定的分辨率 优先： 不用在线生成模型 已经提前生成好了金字塔 缺点：占用多余空间 数据冗余 并且不同分辨率之间没有连续性 在切换时会有跳转的感觉
连续LOD模型
某一时间只保留某一分辨率的模型 实际上就是实时生成那个副本 不预先存储 优缺点和非连续的相反
节点LOD模型
本身是一个分辨率结构。不同分辨率模型之间用节点相连，通过对节点的激活来操作相应的部件。所有节点均被激活时，实质就是一个全分辨率结构，优点是结构简单、操作方便，适合表达复杂的不连续的体模型对象
子材质数量尽量少，减少批次
减少大尺寸纹理的使用，能合并的通道就合并到一张纹理上
就是GLSL处理向量和处理一个float数据屎一样的速度 所以在存储数据到纹理的时候就尽量存储到一起去组合成一个向量
减少粒子数量
特效及UI的一些小图片合并一张大图上，减少批次
角色部件拆分数量及骨骼数尽量减少
场景方面
视锥体剔除
应该是尽量提早进行视锥剔除减少不必要的光栅化和数据插值
灯光数量及半径大小尽量缩减
过远的光照不仅对颜色的影响很小 还会增大计算量
使用遮挡片；灯光、植被、粒子等与渲染等级挂钩，提升低配机帧率
渲染
场景阴影可以使用lightmap替代实时阴影
例如直接使用blender去获取一个静态的lightmap 直接拿来用就行了 如何自己创建一个lightmap 一般lightmap都比较小 例如6464 主要是方便快速运行 一般会设定最大的lightmap为多大例如上限为6464 为每一个物体创建一张空白的纹理 然后要记住的一点是需要归一化亮度 也就是所有的亮度都必须映射在一定的范围内 如果某个物体渲染的时候它的lightmap比引擎规定的最大尺寸的lightmap的尺寸要大的话，那么这个物体应该被分割成更小的碎片，每一个碎片有它们自己的lightmap
根据物体表面的某个点的法线来找到planar mapping技术里的那个主坐标轴平面。 找到那个平面上最小和最大的点。也就是说对于某一个特定的平面，我们只需要使用一个2维纹理坐标。比如说，如果你现在在处理的是XY平面，这一步只需要考虑x和y两个分量。 为uv向量赋值 通过这个平面的最小的点来推算出这个平面的原点p。前面的那一步做起来是非常简单的，你只需要把3D的点投影到你的平面上去。你只有一个未知的变量，所以解决这个问题是非常简单的。 计算出u和v的长度 最后计算出lightmap的坐标： for each vertex ltu=((pu - minu) / ulen) ltv=((pv - minv) / vlen) 在上面的公式中，pu和pv是平面坐标系下的x和y坐标。pu和pv不是什么新东西，他们是在这个特定平面上某个点的坐标值。
现在你已经计算出来uv向量和lightmap的坐标了，你可以做你想做的任何事情了。在生成lightmap的时候真正的用来计算采样点uv的可能会长得像下面的伪代码一样，为了说明清楚算法，没有做什么优化：
usteps = ulen / [lightmap_w]; vsteps = vlen / [lightmap_h]; for(int ly=0; ly < [lightmap_h]; ly++){ for(int lx=0; lx < [lightmap_w]; lx++){ xs = uvec * (lx * usteps) ys = vvec * (ly * vsteps) sample= xs + ys + p // ... 计算在这个点的光照 // ... 把光照数据存储到lightmap的（lx,ly）这个位置上去 } } 在世界坐标中的同样的那个点也是你在光照计算时使用的那个
planar mapping需要了解
远处阴影更新频率降低
其他玩家阴影关闭，或者使用黑片代替或低级lod的模型渲染； 应该是远处的阴影可以不使用抗锯齿等优化方案
其他玩家使用低级lod；低配机上场景物件使用低级lod；
关闭不必要的后处理；
客户端减少同步的角色数量；
粒子使用halfres渲染
动画
远处动画更新频率降低
使用动画lod
屏蔽部分骨骼的动画计算
物理
使用胶囊体或球体代替骨骼碰撞
除主角外的其他玩家关闭布料计算
加载
使用异步加载或预加载，减少卡顿；
动画数据压缩
纹理降低mipmap，减少内存占用
在不必要的地方减少mipmap的使用 减少内存的占用
